三氯化硼杂质的吸附

2020-01-07

三氯化硼具有作为阳离子聚合催化剂的用途,然而近年来,随着集成电路微细化要求的提高,作为半导体元件配线用铝的干蚀刻中的氯的供给源,使其用途迅速扩大。

 

为吸附出去三氯化硼中的硅化物、光气及氯化烃,在所用活性炭再生时,首先将该活性炭加热到10~120℃,回收从该活性炭脱附的以三氯化硼为主要成分的气体,接着再把该活性炭加热到200~700℃。

 

众所周知,三氯化硼是用氯气、碱金属化物或四氯化硅等氯化而制取的,但在制取的粗三氯化硼中含有氮气、氧气、光气、卤化烃、硅化物和各种金属。作为铝干蚀刻等用的三氯化硼要求上述杂质除到lppm以下。仅用粗三氯化硼气化的方法就可除去大部分金属,但要把光气、硅化物、卤化烃等除到lppm以下就困难了。一般上是以干蚀刻所需高纯度三氯化硼为对象,但此种操作复杂、回收率低而不实用。