高纯三氯化硼的生产与应用

2019-03-13

三氯化硼除了作为阳离子聚合催化剂和硼化合物的原料外,还可作为半导体的掺杂剂或蚀刻剂,但要求纯度特别高。

生产高纯三氯化硼可以采用粗制三氯化硼为原料,经过高压常温吸收和低温冷却抽空相联合的方式,深层次的除掉三氯化硼中的所有杂质,生产出纯度为99.999%的三氯化硼产品。

高纯三氯化硼主要用于IC制造工艺中技术要求很高、对电路成品率影响很大的化学气相淀积成膜过程以及等离子干法刻蚀过程,会对IC产品的品质带来很关键的作用,且不可以其他电子气体代替。它的杂质含量和纯度直接影响IC、电子元器件的质量、性能、技术指标和成品率。为保证军用IC产品的质量和可靠性,对工艺配套原料气提出很高的要求,要求三氯化硼纯度必须在99999%(5N)以上。5N以上的高纯三氯化硼国内尚不能生产,该级别产品完全依靠从美国、英国、日本等国外几家大公司进口。